批量研磨抛光设备
  • 高加工精度TTV:≤±1 um,RA:≤0.1 nm。
  • 适用8寸以下及各类异形晶圆加工。
  • ステーションでの同時処理により、2インチウェーハを一度に最大48枚、高出力で研磨可能です。
  • 减少抛光时间 ,每个抛光头0-50Kg负载 ,抛光时间可减少70%。
  • 汎用性と汎用性により、さまざまな材料を研磨し、高精度の研磨により高い効率と生産性を提供します。ユーザーの要件に応じて、さまざまな研磨テンプレートを作成して最高の結果を達成
  • 设备具有实时在线监测工艺过程中磨抛盘面形的功能 ,并可实时在线修整磨抛盘的面型,盘面形控制精度1um。
  • 易于移动 ,整个系统安放使用带锁定功能的万向轮 ,方便固定和移动。
  • 操作和维护方便、简单自动化面板控制 ,全部参数设置都在面板上操作 ,简单、明了。另装有智能 的装载/卸载系统 ,容易操作。
  • 具备盘温监控、自动冷却等温度控制功能 。

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